HDP CVD
「HDP CVD」熱門搜尋資訊
8吋高密度電漿輔助化學氣相沉積系統(HDPCVD)簡介
https://www.tsri.org.tw
Mainframe : Ultima HDP MF w/Multi-Slot ... Depo rate. N. GOF. 1046Å. 107 Å. 3.533. 6600Å/min. 1.452. 98.86%. PROCESS DATA. Chamber “A” HDP (HDP 1.0K), Temperature ...
Centura Ultima HDP CVD
https://www.appliedmaterials.c
应用材料公司的Centura Ultima HDP CVD 200 毫米和300 毫米系统提供高密度等离子 CVD 工艺制程。该系统一直是行业领先的主力设备，可提供高质量的介电质薄膜沉积和无 ...
Centura Ultima HDP
https://www.appliedmaterials.c
Applied Centura Ultima HDP CVD 200mm 及300mm 系統提供高密度電漿化學氣相沉積 (CVD) 製程。目前是業界製程設備的主力，提供高品質介電薄膜及無孔洞間隙充填。
HDPCVD
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HDPCVD is a special form of PECVD that uses an ICP source that provides a higher plasma density than a standard parallel-plate PECVD system.
Technology
https://www.lamresearch.com
Reliant 系統 化學氣相沉積（CVD） 脈衝雷射沉積（PLD） 電漿輔助化學氣相沉積（PECVD） 高密度電漿化學氣相沉積（HDP-CVD）. 我們的Reliant 沉積產品可實現特殊製程藍圖，並 ...
利用HDP
https://ndltd.ncl.edu.tw
本研究使用高密度電漿化學式氣相沈積(High density plasma chemical vapor deposition, HDPCVD)製備一微晶矽(Microcrystalline silicon, μc-Si)薄膜，其可用以改善薄膜 ...
化學氣相沉積與介電質薄膜
http://140.117.153.69
確認至少四種化學氣相沉積(CVD) 的應. 用. • 描述CVD 製程順序. • 列舉兩種沉積區並描述它們和溫度之間. 的關係. • 列舉兩種介電質薄膜. 舉出兩種最常使用在介電質化學 ...
沉積
https://www.lamresearch.com
電漿輔助化學氣相沉積（PECVD）、高密度電漿化學氣相沉積（HDP-CVD）和原子層沉積（ALD）是用來形成隔離和保護所有這些電氣結構的關鍵絕緣層。使用脈衝雷射沉積（PLD）技術可實現 ...
集成工艺调制一种利用hdp－cvd间隙填充的新型方法
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HDP沉积的溅射元素减慢在某些形貌诸如突起表面的角落上沉积，从而有利于HDP沉积膜的改善的间隙填充能力。一些HDP-CVD系统导入氩气或类似重惰性气体以进一步促进溅射效果。